グレード: CG-3202
ヘキサメチルジシラザン
CG-3202（ヘキサメチルジシラザン）は、末端封止剤、洗浄剤、離型剤として使用されるほか、有機化学品・医薬化学品製造の中間体にも使用されます。
- CAS番号: 999-97-3
- EC番号: 213-668-5
- 分子式: C6H19NSi2
- 構造式
- 別名・慣用名: 1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルジシラザンヘキサメチルシラザン1,1,1,3,3,3-ヘキサメチル-1,3-ジシラ-2-アザプロパンビス(トリメチルシリル)アミン1,1,1,3,3,3-HexamethyldisilazaneHexamethyldisilylamineHexamethylsilazaneIminobis(trimethylsilane)Silanamine, trimethyl-N-trimethylsilyl-HMDSHexamethyldisilazane1,1,1,3,3,3-Hexamethyl-1,3-disila-2-azapropaneBis(trimethylsilyl)amine
- 外観: 無色透明の液体
- 純度: ≥98%
- 密度（20℃）: 0.770-0.780 g/cm3
- 沸点: 125℃
- 溶解性: アルコールおよび脂肪族・芳香族炭化水素系溶剤に溶解します。
包装・保管上の注意
25 kgまたは200 kgのプラスチックドラム、もしくはスチールドラムで包装できます。その他の包装容量についてもご相談に応じます。密栓し、遮光した涼しく乾燥した換気のよい場所で保管してください。
主な用途
シリコーンゴム分野の構造制御剤として、シリカ表面の水酸基と優先的に反応して不活性化し、構造化を抑えます。
有機・医薬合成において、水酸基、カルボキシ基、アミノ基、カルボニル基、不飽和結合などの保護剤、触媒、活性化剤、およびシリル化試薬として使用されます。
電子産業ではチップ洗浄剤、フォトレジスト密着向上剤、窒化ケイ素薄膜をCVD成膜するための前駆体に使用されます。
リチウム電池電解液の安定剤として、充放電効率と電池寿命を向上させます。
シリカなどの無機充填材の表面疎水化処理に使用されます。
